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国家投资1600亿武汉光谷 湖北省迄今最大的单体投资项目

2016-03-29 07:59 作者:cssoadmin [ ]
    3月28日上午,由湖北省人民政府举办的存储器基地项目启动仪式在武汉市东湖高新区举行。湖北省委书记、省人大常委会主任李鸿忠,工业和信息化部副部长怀进鹏等单位的领导和嘉宾出席,相关领域专家和合作伙伴、武汉新芯集成电路制造有限公司员工等约400人出席仪式。
    作为国家发展集成电路产业的重大部署,该项目由国家集成电路产业投资基金股份有限公司、国家发展基金有限公司、湖北集成电路产业投资基金股份有限公司、湖北省科技投资集团有限公司共同出资筹建,以武汉新芯集成电路制造有限公司为基础的高端存储器研发与制造基地。
    存储器是最大宗的集成电路产品,也是我国进口金额最大的集成电路产品。2014年,我国集成电路进口额2176.2亿美元,其中存储器占24.9%。
    存储器基地坐落于湖北武汉东湖高新技术产业开发区,距高铁武汉站24千米,占地面积2500亩(其中核心厂区面积约1400亩),共分三期建设,除了今年全面开工的一期厂房外,二、三期厂房预计分别于2018年和2020年前建成。
    据了解,该基地主要生产3D NANA Flash芯片和DRAM芯片;建成后产能预计将达到30万片每月,以填补我国主流存储器领域的空白,满足国内我大数据应用和物联网市场对存储器产品的巨大需求。
    新厂房建成投产后,还将吸纳就业人口1.7万,配套及产业链将带来更多的就业机会。基地还将规划一个总建筑面积达200万平方米的国际社区作为配套,满足此项目人才居住的生活需求,社区总人数将超过30000人。另有1000亩地将被用于供应商及产品配套用地。